Claridad UV inigualable: nuestra sílice fundida de "grado UV" ofrece la mayor transmisión en el espectro UV profundo, lo que permite que sus sistemas de litografía, esterilización y espectroscopia funcionen con la máxima eficiencia.
Construidas para el haz: con uno de los umbrales de daño láser más altos de la industria, nuestras ventanas de grado láser resisten intensos flujos de láser pulsados y CW, protegiendo su sistema y manteniendo una fidelidad excepcional del frente de onda.
Estabilidad térmica por diseño: un coeficiente de expansión térmica ultrabajo garantiza que el enfoque se mantenga nítido y la alineación se mantenga fiel, incluso bajo la carga de calor de una operación de alta potencia o en las temperaturas extremas del espacio.
Una plataforma para la precisión: su excepcional homogeneidad y capacidad de pulido lo convierten en el sustrato ideal para recubrimientos de película delgada exigentes, lo que permite funciones ópticas complejas con una pérdida mínima.
Fabricación de semiconductores: películas y ópticas para máquinas paso a paso de litografía DUV y EUV.
Sistemas láser avanzados: ventanas, lentes y sustratos para láseres excimer, ultrarrápidos y pulsados de alta energía.
Aeroespacial y defensa: ventanas para telescopios espaciales, sensores de advertencia de misiles UV y telémetros láser.
Ciencias biológicas y análisis: cubetas y ventanas para espectroscopia UV-Vis, detección de fluorescencia e instrumentos de secuenciación de ADN.
Procesamiento industrial: Ventanas gráficas para hornos de alta temperatura y cámaras de plasma.
